ZMP-960晶體出現(xiàn)率分析儀是工作原理是通過專用高分辨率 CCD 線性傳感器和顯微光學(xué)掃描平臺，將顆粒圖像信息采集下來并傳輸?shù)接嬎銠C中，用專門的顆粒圖像分析軟件對顆粒圖像進行分析。結(jié)合智能的背景分離的顆粒邊界搜索算法，將目標顆粒與背景分離，分析出各種測量參數(shù)，并通過顯示器和打印機輸出。

產(chǎn)品型號：ZMP-960
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2026-01-13
訪問量：2718

立即咨詢

聯(lián)系電話：400-8810-898

詳細介紹

一、結(jié)構(gòu)原理

ZMP-960晶體出現(xiàn)率分析儀工作原理是通過專用高分辨率CCD線性傳感器和顯微光學(xué)掃描平臺，將顆粒圖像信息采集下來并傳輸?shù)接嬎銠C中，用專門的顆粒圖像分析軟件對顆粒圖像進行分析。結(jié)合智能的背景分離的顆粒邊界搜索算法，將目標顆粒與背景分離，分析出各種測量參數(shù)，并通過顯示器和打印機輸出。

該儀器具有超大測量范圍及高分辨率，同時具有直觀、可視、準確、操作簡單、測量參數(shù)全面等特點。能夠同時測量顆粒粒度、形狀及表面顏色的新型顆粒分析儀器。

二、產(chǎn)品介紹

ZMP-960晶體出現(xiàn)率分析儀可以直接對透明貼劑中析出的晶體進行掃描，按照規(guī)定掃描范圍進行掃描一定的面積，將其中的晶體識別出來并做數(shù)量統(tǒng)計。軟件可以內(nèi)置公式得出晶體出現(xiàn)率。

三、性能指標

1.測量范圍：1μm ～ 100mm

2.圖像分辨率：900萬像素

3.光學(xué)平臺：100mm * 120mm

4 背景光源：反射光

留言詢價